行业

传芯半导体公开用于EUV光刻的曝光成像结构、反射式光掩模版组及投影式光刻机

集微网消息，国家知识产权局网站日前公开了上海传芯半导体有限公司“曝光成像结构、反射式光掩模版组及投影式光刻机”发明专利申请。 根据专利说明书，该发明提供一种用于EU...